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隨著科技的不斷進(jìn)步,清洗技術(shù)在工業(yè)制造和科研領(lǐng)域的重要性日益凸顯。等離子清洗機(jī)作為一種高效、環(huán)保的表面處理設(shè)備,近年來(lái)受到了廣泛關(guān)注。本文將詳細(xì)闡述國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)相比之前的優(yōu)點(diǎn),并解釋其背后的技術(shù)原理和應(yīng)用前景。一、技術(shù)創(chuàng)新與性能提升1.先進(jìn)的能量轉(zhuǎn)換技術(shù)國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)采用了先進(jìn)的能量轉(zhuǎn)換技術(shù),通過(guò)電能激發(fā)氣體,形成高活性的等離子體。這些等離子體能輕柔沖刷樣品表面,改變分子結(jié)構(gòu),達(dá)到超清洗的效果。這種技術(shù)不僅提高了清洗效率,還避免了對(duì)樣品表面的損傷,確保了材料的完整性和功...
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國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)是目前市場(chǎng)上比較受歡迎的清洗設(shè)備之一,主要用于去除電子元器件或微型機(jī)械零件表面的污染物和過(guò)剩殘留物。它采用等離子透析技術(shù),通過(guò)強(qiáng)大的離子化能力,將表面的污染物離子化并去除,確保元器件的純凈度和良好的性能。一、清洗原理國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)的清洗原理是利用高能微波等離子體的化學(xué)反應(yīng)和離子氧的氧化能力,使污染物表面的分子和離子分解、釋放出來(lái),從而達(dá)到清洗的目的。該清洗機(jī)主要分為兩個(gè)部分,即等離子發(fā)生器和清洗室。等離子發(fā)生器能夠生成含有離子氧的等離子體,進(jìn)入清洗室后會(huì)與表...
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等離子清洗機(jī)是一種采用等離子技術(shù)進(jìn)行清洗的設(shè)備,能夠有效去除表面污染物及有機(jī)物。下面是一般等離子清洗機(jī)的操作流程說(shuō)明:準(zhǔn)備工作:首先檢查設(shè)備是否正常,檢查電源、氣源、水源等各項(xiàng)設(shè)施是否齊備;根據(jù)不同情況選擇合適的等離子清洗介質(zhì),并將其注入設(shè)備中;準(zhǔn)備需要清洗的材料。放置材料:將需要清洗的材料放置于等離子清洗機(jī)內(nèi),注意安放位置和數(shù)量,確保材料之間不會(huì)相互影響。啟動(dòng)設(shè)備:開(kāi)啟設(shè)備電源,將氣源連接到設(shè)備上,并打開(kāi)氣源開(kāi)關(guān);將水源接通并打開(kāi)水源開(kāi)關(guān);根據(jù)設(shè)備要求設(shè)置等離子清洗參數(shù)(如...
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等離子體是一種由帶正電荷的離子和帶負(fù)電荷的自由電子組成的氣體狀態(tài)。它是一種高能量狀態(tài)的物質(zhì),具有非常強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)能力和物理性質(zhì)。通過(guò)加能使原子或分子的電子被激發(fā)或離開(kāi)原子而形成的,當(dāng)分子或原子被電離后,它們會(huì)失去或獲得電子,形成帶正電荷或負(fù)電荷的離子,這些離子和自由電子相互作用,形成等離子體。實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)是一種常用的表面處理設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料制備、電子元器件、光學(xué)儀器等領(lǐng)域的表面清洗,尤其適用于對(duì)精密儀器、磁性材料、生物芯片等高靈敏度、高純度要求的設(shè)備進(jìn)行清洗處理。在...
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國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)是一種用于微納加工的設(shè)備,它采用等離子體技術(shù)對(duì)微電子器件進(jìn)行精確刻蝕,是半導(dǎo)體工業(yè)中*關(guān)鍵設(shè)備之一。它主要由核心部件、控制系統(tǒng)和輔助設(shè)備組成。核心部件包括真空室、等離子氣體供應(yīng)系統(tǒng)、射頻發(fā)生器、陰極材料等元件,這些元件協(xié)同工作可以產(chǎn)生高能量的等離子體束,實(shí)現(xiàn)對(duì)硅基材料的精確刻蝕??刂葡到y(tǒng)則包括程序控制器、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、參數(shù)設(shè)置系統(tǒng)等,通過(guò)這些系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的自動(dòng)化控制和運(yùn)行優(yōu)化。輔助設(shè)備則包括真空泵、水冷裝置、氣體凈化裝置等,這些設(shè)備保證了設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行所需的...
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多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的設(shè)計(jì)與應(yīng)用電子科技大學(xué)老師使用PLUTO-T型等離子清洗機(jī),應(yīng)用于制備具有超柔性超疏水的等離激元TiN吸收器。通過(guò)將TiN納米顆粒和聚二甲基硅氧烷溶液進(jìn)行耦合,構(gòu)建了具有優(yōu)異的光吸收、光熱效應(yīng)及超疏水性,強(qiáng)健的機(jī)械柔韌性、抗沖擊性、耐磨性及自修復(fù)能力的等離激元TiN吸收器。4.2.3.3自修復(fù)測(cè)試自修復(fù)測(cè)試是通過(guò)使用等離子體撞擊樣品表面及光照愈合的方法進(jìn)行的。首先,將樣品放入氧等離子體儀中,功率設(shè)為150W。用氧等離子體轟擊樣品表面3分鐘,涂層變?yōu)槌?..
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等離子體處理對(duì)于聚丙烯微流控芯片粘接強(qiáng)度的影響聚丙烯(Polypropylene,PP)材料是一種熱塑性半結(jié)晶塑料,其具有價(jià)格低廉、易于加工成型以及生物兼容性良好等優(yōu)點(diǎn),因此PP可以被用于微流控芯片的加工制作。微流控芯片是將通道、反應(yīng)池等功能模塊集成在微米尺度的一種微流體操作平臺(tái)。等離子體處理是利用等離子體中的高能態(tài)粒子打斷聚合物表面的共價(jià)鍵,等離子體中的自由基則與斷開(kāi)的共價(jià)鍵結(jié)合形成極性基團(tuán),從而提高了聚合物表面活性。于此同時(shí),等離子體對(duì)高分子聚合物表面存在物理刻蝕作用,導(dǎo)...
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單層MoS2光電探測(cè)器的制備和性能調(diào)控二維過(guò)渡金屬硫化物(2D-TMDS)材料(如M0S2、WS2、SnS2NbS2)具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、光電學(xué)、力學(xué)等性能,材料厚度為0.1?Inm,具有理想的半導(dǎo)體帶隙(1.5-2.1eV),以及強(qiáng)烈的光-物質(zhì)相互作用,成為下一代微型、高靈敏度、高穩(wěn)定、透明性的光電探測(cè)器的理想材料。對(duì)單層MoS2光電探測(cè)器進(jìn)行氧等離子處理,氧等離子處理工藝是:將制備出的單層MoS2光電探測(cè)器放置于低溫氧等離子環(huán)境中,氧等離子體機(jī)的放電功率均設(shè)置為10W,...
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TiO2/二維(ReS2,GeTe)薄膜異質(zhì)結(jié)光催化劑制備及光電催化性能研究PLUTO-T型等離子清洗機(jī)適合在大學(xué)實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)使用的實(shí)驗(yàn)室桌面型等離子清洗機(jī)。性能穩(wěn)定,操作方便,參數(shù)響應(yīng)反饋及時(shí),深得科研人員的喜愛(ài)和贊同。浙江大學(xué)客戶(hù)使用PLUTO-T型等離子清洗機(jī)發(fā)表了論文。(1)采取球磨與超聲液相輔助剝離法制備二維層狀ReS2納米片,所制得的納米片尺寸約為200nm,厚度小于10nm。通過(guò)滴涂法工藝在一維TiO2垂直納米棒(NRs)陣列薄膜上涂覆ReS2納米片制備Ti...
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